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開放特許抄録集


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整理番号:0082 印刷用PDF
特許名称 スパッターターゲット、スパッター装置、スパッター方法及び多層膜
発明者
略歴/業績他 
研究室概要
内富 直隆

利用分野

液晶パネル、半導体、ハードディスク等記録媒、発光素子、シリコン基板、薄膜太陽電等の各種電子材料

発明の目的 既存のスパッター装置に適用でき、しかも同一薄膜形成室内で、組成制御性に優れた複数の異なる組成を有する層からなる多層膜を作ること、及び添加材料の交換時ターゲットを汚染せずに組成の異なる複数の不純物材料が安価に添加できるようにします。
概要 主ターゲットと、該主ターゲット上に補助ターゲットを載置すると共に、前記補助ターゲットは、添加材料と、この添加材料を主ターゲットから離間させるため、上面が開口した容器状の離間手段を用います。
特徴・効果 このスパッター装置では、従来の装置では実現し得なかった組成の異なる多数の添加材料を添加した薄膜を形成することができます。
  また、主ターゲットとこの主ターゲット上に載置した交換可能な補助ターゲットとを備えることによって既存のスパッター装置に適用でき、同一薄膜形成室内で組成制御性に優れた複数の異なる組成の層からなる多層膜が作れるだけでなく、添加材料の交換時も主ターゲットを汚染せずに組成の異なる複数の不純物材料が添加できます。
発明の詳細・
図面等

【特許請求の範囲】
主ターゲットと、この主ターゲット上に載置される補助ターゲットとを備え、前記補助ターゲットは、添加材料と、この添加材料を前記主ターゲットから離間させるための離間手段とを備え、前記離間手段が、上面が開口した容器形状に形成されたことを特徴とするスパッターターゲット。

【詳細】
スパッターターゲット1は、主ターゲット2と、この主ターゲット2上の補助ターゲット3からなります。補助ターゲット3は、添加材料4と、この添加材料4を主ターゲット2から離間させるための離間手段5から構成されていて、これにより、主ターゲット2をスパッター装置内の電極などに固定できます。なお、バッキングプレート6に用いる材料は特に限定はありませんが、導電性及び熱伝導性が高い銅を用いると、より好適です。
これにより、薄膜形成室内で安定なプラズマ放電を維持しつつ、薄膜に添加材料4となる不純物材料などを添加することができます。また、異なる不純物材料を添加する場合は、補助ターゲット3を交換することにより、主ターゲット2を交換することなく、組成の異なる不純物材料を添加した薄膜を形成することができます。

スパッターターゲットの模式図
スパッターターゲットの模式図
ライセンス情報
  • 特許登録番号:第4734572号
  • 登録日:H23年5月13日(2011年)
  • 権利満了日:H38年8月21日(2026年)
  • 実施許諾:可
  • 権利譲渡:否
事業化情報
  • 実施実績:無し
  • 許諾実績:無し
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