分子・プラズマ物理化学研究室

技術シーズカテゴリー
ナノテクノロジー・材料
キーワード
アモルファス炭素系薄膜プラズマCVDプラズマ分光診断

研究室教職員

伊藤 治彦

伊藤 治彦ITO Haruhiko

物質材料

准教授

TEL:
0258-47-9330
FAX:
0258-47-9300

専門分野

1. 基礎化学:物理化学

研究分野

1.物理化学
2.分子分光学
3.プラズマ化学
4.窒化炭素系薄膜の合成

主要設備

パルスYAGレーザー励起色素レーザー
大型回折格子分光器
プラズマCVD装置

得意とする技術

1.放電プラズマで生成した反応中間種(フリーラジカル)の高分解能分光
2.フリーラジカルの分子構造・電子構造解析
3.超硬質窒化炭素薄膜の合成
4.プラズマ化学反応の解析

産学官連携実績・提案

1.プラズマCVD技術
2.薄膜の剥離防止技術
3.薄膜コーティング技術
4.プラズマ計測技術
5.真空技術

知的財産等

硬質窒化炭素膜の形成方法(特開2006-249522)
可逆的に水素を吸蔵放出する材料及び該材料を充填した水素吸蔵装置(特許第3747243号)
電子放出材料(特許第3607947号)

  • 図1 ECRプラズマCVD法を用いた超硬質アモルファス窒化炭素薄膜の合成図1 ECRプラズマCVD法を用いた超硬質アモルファス窒化炭素薄膜の合成
  • 図2 放電プラズマ中に生成した反応中間種(フリーラジカル)の高分解能レーザー分光図2 放電プラズマ中に生成した反応中間種(フリーラジカル)の高分解能レーザー分光
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