開放特許抄録集化学関係

整理番号:0082

スパッターターゲット、スパッター装置、スパッター方法及び多層膜

利用分野

液晶パネル、半導体、ハードディスク等記録媒、発光素子、シリコン基板、薄膜太陽電等の各種電子材料

発明者

内富　直隆

発明の目的

既存のスパッター装置に適用でき、しかも同一薄膜形成室内で、組成制御性に優れた複数の異なる組成を有する層からなる多層膜を作ること、及び添加材料の交換時ターゲットを汚染せずに組成の異なる複数の不純物材料が安価に添加できるようにします。

概要

主ターゲットと、該主ターゲット上に補助ターゲットを載置すると共に、前記補助ターゲットは、添加材料と、この添加材料を主ターゲットから離間させるため、上面が開口した容器状の離間手段を用います。

特徴・効果

このスパッター装置では、従来の装置では実現し得なかった組成の異なる多数の添加材料を添加した薄膜を形成することができます。

また、主ターゲットとこの主ターゲット上に載置した交換可能な補助ターゲットとを備えることによって既存のスパッター装置に適用でき、同一薄膜形成室内で組成制御性に優れた複数の異なる組成の層からなる多層膜が作れるだけでなく、添加材料の交換時も主ターゲットを汚染せずに組成の異なる複数の不純物材料が添加できます。

発明の詳細・図面等

【特許請求の範囲】

主ターゲットと、この主ターゲット上に載置される補助ターゲットとを備え、前記補助ターゲットは、添加材料と、この添加材料を前記主ターゲットから離間させるための離間手段とを備え、前記離間手段が、上面が開口した容器形状に形成されたことを特徴とするスパッターターゲット。

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【詳細】

スパッターターゲット１は、主ターゲット２と、この主ターゲット２上の補助ターゲット３からなります。補助ターゲット３は、添加材料４と、この添加材料４を主ターゲット２から離間させるための離間手段５から構成されていて、これにより、主ターゲット２をスパッター装置内の電極などに固定できます。なお、バッキングプレート６に用いる材料は特に限定はありませんが、導電性及び熱伝導性が高い銅を用いると、より好適です。

これにより、薄膜形成室内で安定なプラズマ放電を維持しつつ、薄膜に添加材料４となる不純物材料などを添加することができます。また、異なる不純物材料を添加する場合は、補助ターゲット３を交換することにより、主ターゲット２を交換することなく、組成の異なる不純物材料を添加した薄膜を形成することができます。

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スパッターターゲットの模式図