開放特許抄録集その他
開放特許 <その他関係> ー 15件表示
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希薄燃焼状態の火炎のゆらぎ計測方法及び希薄燃焼状態の火炎のゆらぎ計測装置
火炎が発光する照度変化を電流変化に変換するセンサーと、前記電流変化を電圧変化に変換する電流電圧変換アンプと、電圧変化を信号波形として処理するデータ収集装置と、前記信号波形を時系列解析する信号処理装置とによって燃焼状態を時系列で把握します。
整理番号0021 -
遠隔操作盤上に保持された操作レバーを加圧し傾斜させると、これに連動して押圧部材が移動するように構成し、押圧部材が三ポジションスイッチの押ボタンを押圧してOFF状態からON状態、さらにOFF状態へと変化する構成です。
整理番号0022 -
搬送路(コンベア)に沿って配設した弾性振動板に超音波振動を与えて撓み進行波を励起させると共に、搬送品下方の流体圧浮揚手段から流体圧力を放出して搬送路上の搬送品を浮揚させ前記搬送品を所定方向へ搬送することができます。
整理番号0029 -
シアン化合物を含む原料ガスをプラズマ化することにより活性化し、基板上に窒化炭素膜を形成する際に、パルス周期が0.1~100000秒の高周波パルスをon/off比50/50~80/20で印加して硬質窒化炭素膜を形成します。 なお、印加する高周波パルスのバイアス電圧は-50~-200Vが好適です。
整理番号0030 -
非強磁性体セラミックス結晶粒子を溶媒に分散させ、得られたスラリーに回転磁場を印加して非強磁性体粒子を配向させた後乾燥固化させて成形体を作製する。 次いで、得られた成形体を酸素含有雰囲気中で焼結化させます。これにより、それぞれの配向度を示すロットゲーリングファクターが0.05~0.99の精密配向多結晶セラミックス焼結体が作製できます。
整理番号0040 -
この発明は、線材の両端に電源を設け、この線材に流れる電流を測定する電流計を設けた酸素センサで、前記線材には同一の希土類元素Lnを含むLnBa2Cu3O7-δとLn2BaCuO5を混合した複合セラミックスの線材を用いたものです。
整理番号0079 -
粘度測定対象の流体が入った容器中に、底面部が幅狭の砲弾型ボブを該底面部から押し込んでゆき、このときに前記砲弾型ボブが受ける反力Fを測定し、この反力Fとユーザが入力した各条件とを用いて所定の計算式に基づきコンピュータで演算処理をして解析します。 これにより、高粘度の非ニュートン流体の他、固形状に形成し難い低粘度の非ニュートン流体の平面伸張粘度を解析することができます。
整理番号0084 -
有機物センサー用素子を、かさ密度が45-80%で、Ni及びOを含む粒子の焼結体又は薄膜により構成します。 また、この有機物センサー素子を使用することによって、沸点が110~500℃の温度範囲で、高分子量の有機物を高温環境下で測定することができます。
整理番号0091 -
複数の文字列データを比較し、文字列の編集の程度(類似の程度)を定量的に評価するアルゴリズムです。 具体的には、(1)新規創作の比率(新規創作率)、(2)「てにおは」や語句の修正・置換・削除等の編集作業が行われた箇所の数(編集点数)、(3)文章や語句の並べ替えの程度(文脈編集距離)、(4)置換された語句の置換前との類似度(語句類似度)という4つの尺度を総合して定量的な更新量を算出します。
整理番号0093 -
まず、画像通信装置にて人物領域が、(a)アウェアネス情報を含む基本階層(低帯域又は高帯域の上位ビットプレーン)と、(b)追加情報を含む拡張階層(基本階層以外の帯域と基本階層に属する帯域の下位ビットプレーン)とに分けられます。次いで、アウェアネス情報を含む基本階層には、(1)人物領域のみ、(2)上位ビットプレーンのみ、(3)優先された一部の帯域のみが含まれるようにして、通常のアウェアネス表示時に要するデータ伝送量は少なくします。これにより低ビットレートでの通信が可能となります。
整理番号0112 -
トレーニングシステム、トレーニングマシンの制御方法および制御装置
主な構成は、運動者に対する目標負荷値を生成する制御装置と、この目標負荷値に基づいて負荷を発生させるトレーニングマシンとにより構成し、制御装置に備えた負荷調整部にて外乱推定機構と力覚推定機構が推定した値に基づき、前記目標負荷値からトレーニングマシンの機構に起因する抵抗力を除いた大きさの負荷を可変負荷発生手段に発生させて電流値情報をドライバに送信し、運動者はこの情報に対応してトレーニングを行います。
整理番号0139 -
水を満たした容器の周囲を断熱材で覆うと共に、この容器の開口部を真空槽で覆い、さらにこの容器と反対側の真空槽の外面に氷結温度以下の低温熱源を設け、この真空槽を介して放射により容器内の水を氷結させて単結晶の氷を製氷します。
整理番号0159 -
特殊形状の高周波電極を使用したプラズマ発生装置を使い、プラズマを反応槽に導入することで、ナノ粒子からなる被膜を反応液中の基板表面に製造します。
整理番号0183 -
本発明の一の観点に係る製氷方法は、原料液を大気に触れながら静置状態で温める工程と、温められた原料液を密閉状態で予冷する工程と、予冷された原料液を製氷装置で凍らせる製氷方法であって、製氷装置は、上部に開口部を有する容器と、開口部を覆う冷却槽と冷却槽の上面又は内部に設けられた放射冷却装置と、容器の内部と連通する緩衝容器とを備え、容器の上縁に載置された冷却槽の下板に接するまで充填された容器内の前記原料液を単結晶氷に氷結することを特徴とするものである。 また、本発明の他の一観点に係る製氷装置は、上部に開口部を有し原料液が充填された容器と、開口部を覆い、容器の上縁に載置された冷却槽と、冷却槽の上面又は内部に設けられた冷却装置と、容器の内部と連通する緩衝容器とを備え、冷却層は容器に充填された原料液に当接する下板を有し、原料液は大気に触れながら静置状態で温めたときの平衡状態となる溶存ガス濃度を維持する液であることを特徴とするものである。
整理番号19018 -
本発明の一観点に係る光線広角化システムは、光源と、ビームステアリング素子と、光源とビームステアリング素子との間に配置された偏光制御素子と、光源から発せられる光線がビームステアリング素子を経由して入射可能に配置された偏光回折素子とを備え、該偏光回折素子は、局所的な格子周期を有し、且つ、光線の振れ角がビームステアリング素子が与える振れ角より増加させる機能を有し、且つ、該偏光回折素子の面と並行に離れた空間平面における光線の走査速度が一定となる機能を有するものである。 本観点において、偏光回折素子は光線がビームステアリング素子から直接入射可能な位置に配置されることが好ましい。 また、本観点において、偏光回折素子が有する局所的な格子周期は、偏光回折素子の面内において1次元的又は2次元的に規則性を有し形成された光学軸方位の分布であることが好ましい。
整理番号20005